پاورپوینت درباره پوشش دهی توسط رسوب فیزیکی بخار

اختصاصی از فی موو پاورپوینت درباره پوشش دهی توسط رسوب فیزیکی بخار دانلود با لینک مستقیم و پر سرعت .

فرمت فایل : power point  (لینک دانلود پایین صفحه) تعداد اسلاید  : 19 اسلاید

بخشی از اسلایدها :

واژه رسوبدهی فیزیکی بخار برای اولین بار در سال 1966 در کتاب vapor deposition) ) نوشته (J.M. Blocher ,J.H.Oxley ,C.F.Powell) عنوان شد اما خیلی قبل تر از آنها در سال 1838، آقای Michael faraday از روش PVD برای رسوب دادن پوشش های خاصی استفاده کرد.

یک نوع رسوبدهی تحت خلاء می باشد که این واژه عموماً برای هر نوع رسوبدهی فیلم های نازک توسط متراکم کردن مواد تبخیر شده بر روی یک سطح انجام می شود اطلاق می گردد.

عبارت رسوب فیزیکی بخار ( (pvdدر اصل برای رسوب دادن فلزات توسط انتقال در خلا و بدون انجام واکنش شیمیایی استفاده می شود.

از این  فرایند برای تولید رسوبهایی از فلزات خالص ‚آلیاژها ‚ترکیبات و سرامیک ها بر روی انواع مختلف زیر لایه ها استفاده می شود

کاربرد این روش تقریبا تمام زمینه های صنعتی وتکنولوژی را در بر گرفته و  دامنه ی وسیعی از خواص سطحی مانند خواص الکتریکی ‚نوری‚مکانیکی وشیمیایی را میتوان توسط آن بهبود بخشید.

پوشش دهی فولاد آستنیتی ضد زنگ AISI 304 با آلومینیوم، سیلیسیوم و رسوب همزمان آلومینیوم و سیلیسیوم به روش سمانتاسیون فشرده

اختصاصی از فی موو پوشش دهی فولاد آستنیتی ضد زنگ AISI 304 با آلومینیوم، سیلیسیوم و رسوب همزمان آلومینیوم و سیلیسیوم به روش سمانتاسیون فشرده دانلود با لینک مستقیم و پر سرعت .

در این مقاله ی کاربردی با فرمت Pdf پوشش دهی فولاد آستنیتی ضد زنگ AISI 304 با آلومینیوم، سیلیسیوم و رسوب همزمان آلومینیوم و سیلیسیوم به روش سمانتاسیون فشرده مورد بررسی قرار گرفته است
به منظور بهبود مقاومت به اکسیداسیون و خوردگی داغ فولاد می توان عناصر آلومینیوم، سیلیسیوم و یا ترکیب دوتایی از این عناصر را به طور همزمان به کمک روش سمانتاسیون فشرده روی سطح نفوذ داد. در این تحقیق با استفاده از روش سمانتاسیون فشرده پوشش آلومینایزینگ، سیلیکونایزینگ و پوشش همزمان آلومینیوم سیلیسیوم بر روی فالاد آستنیتی ضد زنگ AISI 304 ایجاد شد.

دانلود پاورپوینت سمینار پوشش دهی توسط رسوب فیزیکی بخار ویژگی ها روش ها و کاربردها در 19 اسلاید

اختصاصی از فی موو دانلود پاورپوینت سمینار پوشش دهی توسط رسوب فیزیکی بخار ویژگی ها روش ها و کاربردها در 19 اسلاید دانلود با لینک مستقیم و پر سرعت .

واژه رسوب دهی فیزیکی بخار برای اولین بار در سال 1966 در کتاب

vapor deposition) )

نوشته (J.M. Blocher ,J.H.Oxley ,C.F.Powell) عنوان شد اما خیلی قبل تر از آنها در سال 1838، آقای Michael faraday از روش PVD برای رسوب دادن پوشش های خاصی استفاده کرد.

یک نوع رسوبدهی تحت خلاء می باشد که این واژه عموماً برای هر نوع رسوبدهی فیلم های نازک توسط متراکم کردن مواد تبخیر شده بر روی یک سطح انجام می شود اطلاق می گردد.

عبارت رسوب فیزیکی بخار (pvd)در اصل برای رسوب دادن فلزات توسط انتقال در خلا و بدون انجام واکنش شیمیایی استفاده می شود.

رسوب دهی لایه های نازک سخت ویا نرم

اختصاصی از فی موو رسوب دهی لایه های نازک سخت ویا نرم دانلود با لینک مستقیم و پر سرعت .

فرمت فایل : word(قابل ویرایش)تعداد صفحات30

مقدمه

مورفولوژی یک پوشش بطور عمده به فناوری بکار گرفته شده بستگی دارد. بطور کلی روشهایی که در آن پوشش از فاز بخار رسوب داده می‌شوند. را می‌توان دو گروه اصلی تقسیم کرد روش رسوب شیمیایی بخار CVD و روش رسوب فیزیکی PVD بعلاوه از روشهایی به نام روشهای کمکی یا تحریک شده نیز استفاده می‌شود. بعنوان مثال روش کمکی پلاسمای رسوب شیمیایی بخار PA-CVD یا فرآیندهای دما توسط مانند روش دما متوسط CVD که با MT-CVD نمایش داده می‌شود نیز گسترش پیدا کرده است. همانطور که در شکل 5.1 نشان داده شده است بعنوان مثال به روشهای فوق مواردی مثل پرایدهای نسوز، کارمیدها، نیتریدها ،اکسیدها وترکیب های مختلفی از این گونه پوششها را میتوان رسوب داد.

5.2 روشهای رسوب شیمیایی بخار

1. 2.1 طبقه بندی فناوریهای CVD

در روش رسوب شیمیایی بخار واکنش کننده ها بصورت گاز تامین شده و واکنشهای شیمیایی در اثر گرما در سطح زیر لایه گرم شده انجام می‌شوند. در روشهای CVD معمولا فرآیند در درجه ر600 تا 1100 درجه سانتیگراد انجام می‌شود هزینه فرآیندهایی که در درجه وارستای پایین تر نیز کار می کنند بکار گرفته شده است. در جدول 5.1 می‌توان روشهایی از CVD که بیشتر در صنعت ارز برش بکار می رود را ملاحظه کرد.

In به شکل سنتی خود فناوری CVD بدون فرآیندهای کمکی در فشار محیط مثل پوشش دهی در فشار محیط APCVD ,CVD یا در فشار پایین مثل پوشش دهی به فشار کم CVD استفاده میشود. از فناوری APCVD که به پوشش دهی با دمای بالای (HT-CVD) CVD نیز معروف است بعنوان پرمصرف ترین روش پوشش می‌توان نام برد.

بررسی میزان همبستگی پارامترهای موثر بر میزان تله اندازی رسوب در سدهای اصلاحی گابیونی

اختصاصی از فی موو بررسی میزان همبستگی پارامترهای موثر بر میزان تله اندازی رسوب در سدهای اصلاحی گابیونی دانلود با لینک مستقیم و پر سرعت .

جریان های واریزه ای حاصل از بارانهای سیل آسا در سراسر جهان رایج بوده و به دلیل دارا بودن غلظت بسیار بالا از رسوبات، دارای قدرت تخریبی زیادی می باشند. استفاده از سدهای اصلاحی در رودخانه های مناطق کوهستانی با شیب زیاد به عنوان یکی از راهکارهای مقابله با سیلاب های واریزه ای مطرح می باشد. در این تحقیق به منظور بررسی میزان همبستگی پارامترهای هیدرولیکی موثر بر میزان تله اندازی رسوب در سدهای اصلاحی گابیونی تعداد 32 آزمایش در محیط آزمایشگاه بر روی دو نوع سد با عرض بازشوی متفاوت تحت چهار شیب و دبی متفاوت با توزیع غیریکنواخت رسوبات در بستر کانال صورت گرفته است. پارامترهای بی بعد اثرگذار بر روی میزان تله اندازی رسوب با انجام تحلیل ابعادی با روش باکینگهام مشخص شده و در نهایت با استفاده از رسم نمودارهای پراکندگی اثر پارامترها بر روی تله اندازی رسوب مشخص گردید. نتایج نشان می دهد رابطه همبستگی بین دبی و تله اندازه رسوب به صورت عکس و غیرمعنی دار بین شیب و تله اندازی رسوب نسبت عکس با یکدیگر و معنی دار می باشد و همچنین با افزایش عرض بازشو در سد اصلاحی گابیونی میزان تله اندازی رسوب کاهش می یابد.

سال انتشار: 1392

تعداد صفحات: 12

فرمت فایل: pdf